在經(jīng)濟持續(xù)蓬勃發(fā)展的當下,集成電路設計領域?qū)λ|(zhì)的要求愈發(fā)嚴苛。生產(chǎn)過程中,超純水成為保障集成電路性能的關鍵要素。展望未來數(shù)年,隨著集成電路制造商數(shù)量的遞增以及制造能力的提升,該行業(yè)對于超純水制備的需求將全面上揚,不僅在 “量” 上要求更多,鑒于集成電路制造工藝日益精密,對純水純度與穩(wěn)定性等 “質(zhì)” 的標準也將更為嚴格。
長期以來,混床離子交換技術作為超純水制備的經(jīng)典工藝,在超純水生產(chǎn)領域應用廣泛。然而,這一傳統(tǒng)工藝存在明顯弊端。其再生過程需周期性進行,期間會消耗大量化學藥品(酸堿)以及工業(yè)純水,同時還會引發(fā)一定的環(huán)境問題。基于此,研發(fā)無酸堿超純水系統(tǒng)迫在眉睫。
傳統(tǒng)離子交換工藝在現(xiàn)代工業(yè)發(fā)展和環(huán)保理念普及的浪潮下,逐漸難以契合需求。在此背景下,融合了膜、樹脂以及電化學原理的 EDI 技術應運而生,堪稱水處理技術領域的重大革新。EDI 設備中離子交換樹脂的再生依靠電能實現(xiàn),徹底摒棄了酸堿的使用,高度契合當下環(huán)保要求。
EDI 設備通常銜接于反滲透系統(tǒng)之后,用以替代傳統(tǒng)混床離子交換技術,穩(wěn)定產(chǎn)出超純水。超純水系統(tǒng)一般由反滲透水處理設備、EDI 設備以及拋光混床協(xié)同構成,共同制備超純水。這一組合不僅代表著超純水制備的全新技術路徑,更因其環(huán)保、經(jīng)濟且具備巨大發(fā)展?jié)摿Γ蔀闃O具前景的超純水制備工藝。
超純水設備優(yōu)勢顯著,能夠持續(xù)穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)超純水,避免了因樹脂再生導致的運行中斷。設備在結構設計上極為緊湊,占地面積小,可為企業(yè)節(jié)省大量空間資源。相較于傳統(tǒng)超純水制備方法,超純水設備優(yōu)點眾多,能夠持續(xù)、穩(wěn)定地為集成電路產(chǎn)業(yè)供應高質(zhì)量超純水,有力推動集成電路產(chǎn)業(yè)邁向更高發(fā)展臺階 。